化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。

[判断题] 沉淀称量法中，洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质，以及产生共沉淀的其他离子。A . 正确B . 错误

[主观题]通常使用温水或清水进行清洗，可清除吸附在物体表面的细菌、尘埃和污物。()

[填空题] 重量分析中，洗涤沉淀的目的是为了除去（）和吸附在沉淀表面上的（）。

[单选题]在给硅片清洗时，通常将杂志分为三类，包括( )①分子杂质②原子杂质③化学杂质④离子杂质A.①②④B.①②③C.②③④D.①③④

[单选题]在给硅片清洗时，通常将杂志分为三类，包括( )①分子杂质②原子杂质③化学杂质④离子杂质A.①②④B.①②③C.②③④D.①③④

吸附在根表面的离子,通过()进入根内部。A. 导管B. 共质体途径C. 质外体途径D. 筛管

[单选题]过滤是通过表面吸附和（）除去水中的悬浮物杂质。A .颗粒结合B .离子交换C .化学反应D .机械截留

[单选题]涂在黑元件表面的（）使吸附在元件表面的甲烷无焰燃烧。A . 铂和钯等重金属催化剂B . 银和铜催化剂C . 催化剂D . 重金属催化剂

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？A. 氧化B. 掺杂C. 清洗D. 光刻

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？A. 氧化B. 光刻C. 清洗D. 掺杂