关于组织补偿技术的错误描叙是（）

[单选题]关于组织补偿技术的错误描叙是()。A．栔型板是剂量补偿B．在高能X(y)线情况下使用组织补偿器必须贴近皮肤表面以提高皮肤剂量C．补偿器分为组织补偿器喝剂量补偿器D．补偿器一般用重金属材料制造E．补偿器可以用于IMRT技术

[单选题]关于呼吸门控技术描叙，错误的是()。A．呼吸运动伪影干扰胸腹部的MR成像B．做胸腹部MR检查需要使用呼吸门控C．一般在每一呼吸周期的吸气相采集数据D．呼吸触发及呼吸门控技术与心电触发及门控技术相似E．触发是利用呼吸波的波峰固定触发扫描达到同步采集数据

[单选题]关于呼吸门控技术描叙，错误的是（）A . 呼吸运动伪影干扰胸腹部的MR成像B . 做胸腹部MR检查需要使用呼吸门控C . 一般在每一呼吸周期的吸气相采集数据D . 呼吸触发及呼吸门控技术与心电触发及门控技术相似E . 触发是利用呼吸波的波峰固定触发扫描达到同步采集数据

[单选题]关于组织补偿器的描述，正确的是：()。A．放在皮肤表面，提高皮肤剂量，改善组织剂量分布B．远离皮肤表面，以保证高能X线照射时皮肤剂量低C．形状必须与体表轮廓一致以改善剂量分布D．厚度必须相同，保证剂量分布改善E．必须用组织替代材料制作

[单选题]关于组织补偿器的描述，正确的是()A.放在皮肤表面，提高皮肤剂量，改善组织剂量分布B.远离皮肤表面，以保证高能X线照射时皮肤剂量低C.形状必须与体表轮

[单选题]关于组织补偿器的描述，正确的是()A .放在皮肤表面，提高皮肤剂量，改善组织剂量分布B .远离皮肤表面，以保证高能X线照射时皮肤剂量低C .形状必须与体表轮廓一致以改善剂量分布D .厚度必须相同，保证剂量分布改善E .必须用组织替代材料制作

[单选题]关于细胞毒素水肿描叙，错误的是()。A．白质、灰质同时受累B．T2WI之边缘信号较高C．钠与水进入细胞内，造成细胞肿胀D．细胞外间隙减少，常见于慢性脑梗塞的周围E．细胞外间隙减少，常见于急性脑梗塞的周围

[单选题]关于细胞毒素水肿描叙，错误的是（）A . 白质、灰质同时受累B . T2WI之边缘信号较高C . 钠与水进入细胞内，造成细胞肿胀D . 细胞外间隙减少，常见于慢性脑梗塞的周围E . 细胞外间隙减少，常见于急性脑梗塞的周围

[单选题]关于间质性水肿描叙错误的是（）A . 结合水增加B . 脑室内压力增高所致C . 脑组织内压力增高所致D . 信号强度明显高于脑脊液E . 如急性脑积水或交通性脑积水

[单选题]组织填充模体是用组织替代材料制成的组织补偿模体，它与组织补偿器的区别是（　　）。A.组织补偿器可用高密度材料制作并在使用时贴紧皮肤B.组织补偿器可用组