________________key：________：在分析电镜中，使用的皆为双物镜加辅助透镜，试样置于上下物镜之间，上物镜起强聚光作用，下物镜起成像放大作用，辅助透镜是为了进一步改善场对称性而加入的。它是电镜的最关键的部分，其作用是将来自试样不同点同方向同相位的弹性散射束会聚于其后焦面上，构成含有试样结构信息的散射花样或衍射花样；将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像平面上，构成与试样组织相对应的显微像。透射电镜的好坏，很大程度上取决于物镜的好坏。________与物镜相似，但焦距较长。它的作用是将来自物镜的的电子像再放大（或缩小），最后显示在观察屏上，得到高放大倍率的电子像。中间镜的倍数可以调节，因此透镜的总放大倍数都有中间镜控制。我们在荧光屏上看到的一切都是中间镜物面上的东西。如果t1=n/s, A′(t) = A(t)亮度与无层错区域相同.如果t1=(n+1/2)/s,则A′(t)为最大或最小,可能大于,也可能小于A(t).但肯定不等于A(t).基于上面的分析，运动学理论告诉我们:________________________________________________________________________位错时晶体中原子排列的一种特殊组态,处于位错附近的原子偏离正常位置而产生畸变,但这种畸变与层错情况不同.位错周围应变场的变化引入的附加相位角因子是位移偏量R的连续分布函数,而层错则是不连续的,例如层错[111]/3型, α= 0,2 π,±2 π /3.而位错线的α值,则随着离位错线的距离不同而连续变化.位错线有________和________错两种,刃位错的柏氏矢量b与位错线垂直,螺旋位错则相互平行.它们都是直线.但由于刃型位错和螺旋位错合成的________,其柏氏矢量与位错线成某以角度,形态为曲线,即布氏矢量b既不平行于位错线，也不垂直于位错线。实际观察到的多为曲线型混合位错.不管是何种类型的位错,都会引起在它附近的某些晶面的转动方向相反,且离位错线愈远,转动量愈小.如果采用这些畸变的晶面作为操作反射,则衍射强度将受到影响,产生衬度.位错结构参看图.位错线像总是出现在它的实际位置的一侧或另一侧,说明其衬度本质上是由位错附近的点阵畸变所产生的,叫做“应变场衬度”.而且,由于附近的偏差S′随离开位错中心的距离而逐渐变化,使位错线像总是有一定的宽度(一般在30~100Å左右).尽管严格来说,位错是一条几何意义上的线,但用来观察位错的电子显微镜却并不必须具有极高的分辨本领.通常,位错线像偏离实际位置的距离也与像的宽度在同一数量级范围内.对于位错衬度的上述特征,运动学理论给出了很好的定性解释.________(1)选择感兴趣的区域，在多数位错显示衬度的情况下拍照，以便了解位错的分布组态。(2)拍照这一取向下的电子衍射图，可以略微倾转样品，使该晶带中的衍射斑点都出现，目的是为了标定方便。(3)倾转样品使位错或一部分位错的衬度消失，这时要随时观察相应的衍射条件，如果是双束条件，拍照衍射花样和相应的衍衬像。(4)倾转样品到达另外的新取向，再适当倾转样品，寻找另一个使位错衬度消失的双束衍射条件，拍摄衍射花样和相应的衍衬像。(5)利用这两个操作反射的指数，确定布氏矢量b。________________________________________一般在双束条件下，第二相质点都不满足基体的双束条件。基体衬度是由于第二相粒子存在使其周围基体产生了晶格畸变而引起的。因此，只有当第二相粒子和基体有共格关系，而且有错配度的情况下才会产生应变衬度。基体衬度可以用类似于晶体缺陷衬度的方法来解释，即第二相粒子引起的基体晶体畸变可以用位移矢量R来描述。显然，对于空间形态不同的第二相或在基体中存在方式不同的第二相，其相应的应变场参量R也不同。其中比较简单的也是研究得比较细致的情况，是球形对称的应变场，见图9-7前已指出，当g•R=0时，位移矢量为R的缺陷不产生衬度。对于任一特定操作反射g，这种纯径向应变场中必有一个截面上的R都满足g·R=0，因此这个截面上的R对衍射束强度不产生附加效应，在衍衬像中出现一条无衬度线。在双束衍射条件下，总能观察到无衬度线的存在，当选用不同的操作反射g时，无衬度线的方向也随之改变，但其总是保持与操作反射g的方向垂直此外，当粒子位于距薄膜表面大约在半个消光距离以内时，将显示不对称的应变衬度，即无衬度线两侧的衬度不对称(见图9—9)，这是由于________而引起的。由图9-9可见，第二相位于样品表面处时，明、暗场像轮廓相同，衬度的不对称性相同；粒子在下表面处，明、暗场像轮廓则相反，衬度的不对称性互为相反方向特别要注意的是，________的衬度，有时很容易和位错环的衬度混淆起来。赫什等指出，可以将共格沉淀物看作具有分数布氏矢量的位错环，部分共格沉淀都可以看作具有“超位错”布氏矢量的位错环。这两种沉淀物都可能表现出位错环的衬度特征。一般说来，________表现出的“位错环”衬度________，而对________来说，往往显示出________的“位错环”衬度。特别当电子束方向垂直于沉淀物薄片时，“位错环”衬度特别明显。因为这种取向下，其它衬度机制很难起作用。较厚的部分共格沉淀，很少看到“位错环”衬度，即使看到弱的“位错环”衬度，只要倾斜试样一个小的角度，就很容易显示出别的衬度形式。对于小尺寸共格错配________的衍衬像，可以看到一条无衬度线。________可采用下述方法：双束条件下选择若干不平行的反射g成像，如果是球形的，则无衬度线方向随g不同而异，且g总垂直于无衬度线；若第二相是片状的，无衬度线方向只和沉淀片位置有关，不随g而异。________：它是近几十年来获得迅速发展的电子显微分析仪器，它即可用来直接观察试样的表面形貌，又可以对试样表面进行成分分析。与反射式光学显微镜比较，具有分辩率高，视野大，景深长，图像实于立体感及放大倍数高等优点，与透射电镜比较，个别样非常简单，导电试样可直接观察，可观察大试样，不破坏试样表面，分析简单。它是进行试样表面形貌分析的有效工具，尤其适用于金属断口的形貌观察及断裂原因分析。________________①入射电子束斑的大小(入射斑点的直径)②试样对入射电子的散射③信号/噪音比________它主要是利用试样表面在高能电子束所激发出来的二次电子或背散射电子信号,通过接收放大在荧光屏上显示出来.它的衬度首先取决于信号性质即二次电子或背散射电子,其次取决于试样材料本身的性质.特别是试样表面的结构与性质.例如凹凸不平情况,成分差别,晶体取向及表面电位分布等.除此之外,扫描电镜成像还涉及到电子光学系统.如电子束斑的大小和像散,因此,也将影响到图像的衬度.最后,成像不是直接由二次电子或背散射电子显像,而必须经过一系列的电子线路将它们放大并在荧光屏上扫描显示________1.二次电子空间分辨率高:二次电子能量低(2~50ev),一般从50~100Å内的表层逸出,面积与入射电子的照射面积相近,所以分辨率高.它有利于用来观察极细小的细节.如断口的微区结构,分析裂纹源的形成与发展.

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key：________：在分析电镜中，使用的皆为双物镜加辅助透镜，试样置于上下物镜之间，上物镜起强聚光作用，下物镜起成像放大作用，辅助透镜是为了进一步改善场对称性而加入的。

它是电镜的最关键的部分，其作用是将来自试样不同点同方向同相位的弹性散射束会聚于其后焦面上，构成含有试样结构信息的散射花样或衍射花样；将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像平面上，构成与试样组织相对应的显微像。透射电镜的好坏，很大程度上取决于物镜的好坏。

________与物镜相似，但焦距较长。它的作用是将来自物镜的的电子像再放大（或缩小），最后显示在观察屏上，得到高放大倍率的电子像。中间镜的倍数可以调节，因此透镜的总放大倍数都有中间镜控制。我们在荧光屏上看到的一切都是中间镜物面上的东西。

如果t1=n/s, A′(t) = A(t)亮度与无层错区域相同.

如果t1=(n+1/2)/s,则A′(t)为最大或最小,可能大于,也可能小于A(t).但肯定不等于A(t).

基于上面的分析，运动学理论告诉我们:________________________________________________________________

________位错时晶体中原子排列的一种特殊组态,处于位错附近的原子偏离正常位置而产生畸变,但这种畸变与层错情况不同.位错周围应变场的变化引入的附加相位角因子是位移偏量R的连续分布函数,而层错则是不连续的,例如层错[111]/3型, α= 0,2 π,±2 π /3.而位错线的α值,则随着离位错线的距离不同而连续变化.

位错线有________和________错两种,刃位错的柏氏矢量b与位错线垂直,螺旋位错则相互平行.它们都是直线.但由于刃型位错和螺旋位错合成的________,其柏氏矢量与位错线成某以角度,形态为曲线,即布氏矢量b既不平行于位错线，也不垂直于位错线。实际观察到的多为曲线型混合位错.不管是何种类型的位错,都会引起在它附近的某些晶面的转动方向相反,且离位错线愈远,转动量愈小.如果采用这些畸变的晶面作为操作反射,则衍射强度将受到影响,产生衬度.位错结构参看图.

位错线像总是出现在它的实际位置的一侧或另一侧,说明其衬度本质上是由位错附近的点阵畸变所产生的,叫做“应变场衬度”.而且,由于附近的偏差S′随离开位错中心的距离而逐渐变化,使位错线像总是有一定的宽度(一般在30~100Å左右).尽管严格来说,位错是一条几何意义上的线,但用来观察位错的电子显微镜却并不必须具有极高的分辨本领.通常,位错线像偏离实际位置的距离也与像的宽度在同一数量级范围内.

对于位错衬度的上述特征,运动学理论给出了很好的定性解释.

________

(1)选择感兴趣的区域，在多数位错显示衬度的情况下拍照，以便了解位错的分布组态。

(2)拍照这一取向下的电子衍射图，可以略微倾转样品，使该晶带中的衍射斑点都出现，目的是为了标定方便。

(3)倾转样品使位错或一部分位错的衬度消失，这时要随时观察相应的衍射条件，如果是双束条件，拍照衍射花样和相应的衍衬像。

(4)倾转样品到达另外的新取向，再适当倾转样品，寻找另一个使位错衬度消失的双束衍射条件，拍摄衍射花样和相应的衍衬像。

(5)利用这两个操作反射的指数，确定布氏矢量b。

________________________________________一般在双束条件下，第二相质点都不满足基体的双束条件。基体衬度是由于第二相粒子存在使其周围基体产生了晶格畸变而引起的。因此，只有当第二相粒子和基体有共格关系，而且有错配度的情况下才会产生应变衬度。

基体衬度可以用类似于晶体缺陷衬度的方法来解释，即第二相粒子引起的基体晶体畸变可以用位移矢量R来描述。显然，对于空间形态不同的第二相或在基体中存在方式不同的第二相，其相应的应变场参量R也不同。其中比较简单的也是研究得比较细致的情况，是球形对称的应变场，见图9-7

前已指出，当g•R=0时，位移矢量为R的缺陷不产生衬度。对于任一特定操作反射g，这种纯径向应变场中必有一个截面上的R都满足g·R=0，因此这个截面上的R对衍射束强度不产生附加效应，在衍衬像中出现一条无衬度线。在双束衍射条件下，总能观察到无衬度线的存在，当选用不同的操作反射g时，无衬度线的方向也随之改变，但其总是保持与操作反射g的方向垂直

此外，当粒子位于距薄膜表面大约在半个消光距离以内时，将显示不对称的应变衬度，即无衬度线两侧的衬度不对称(见图9—9)，这是由于________而引起的。由图9-9可见，第二相位于样品表面处时，明、暗场像轮廓相同，衬度的不对称性相同；粒子在下表面处，明、暗场像轮廓则相反，衬度的不对称性互为相反方向

特别要注意的是，________的衬度，有时很容易和位错环的衬度混淆起来。赫什等指出，可以将共格沉淀物看作具有分数布氏矢量的位错环，部分共格沉淀都可以看作具有“超位错”布氏矢量的位错环。这两种沉淀物都可能表现出位错环的衬度特征。

一般说来，________表现出的“位错环”衬度________，而对________来说，往往显示出________的“位错环”衬度。特别当电子束方向垂直于沉淀物薄片时，“位错环”衬度特别明显。因为这种取向下，其它衬度机制很难起作用。较厚的部分共格沉淀，很少看到“位错环”衬度，即使看到弱的“位错环”衬度，只要倾斜试样一个小的角度，就很容易显示出别的衬度形式。

对于小尺寸共格错配________的衍衬像，可以看到一条无衬度线。________可采用下述方法：双束条件下选择若干不平行的反射g成像，如果是球形的，则无衬度线方向随g不同而异，且g总垂直于无衬度线；若第二相是片状的，无衬度线方向只和沉淀片位置有关，不随g而异。

________：它是近几十年来获得迅速发展的电子显微分析仪器，它即可用来直接观察试样的表面形貌，又可以对试样表面进行成分分析。与反射式光学显微镜比较，具有分辩率高，视野大，景深长，图像实于立体感及放大倍数高等优点，与透射电镜比较，个别样非常简单，导电试样可直接观察，可观察大试样，不破坏试样表面，分析简单。它是进行试样表面形貌分析的有效工具，尤其适用于金属断口的形貌观察及断裂原因分析。

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①入射电子束斑的大小(入射斑点的直径)②试样对入射电子的散射③信号/噪音比

________它主要是利用试样表面在高能电子束所激发出来的二次电子或背散射电子信号,通过接收放大在荧光屏上显示出来.它的衬度首先取决于信号性质即二次电子或背散射电子,其次取决于试样材料本身的性质.特别是试样表面的结构与性质.例如凹凸不平情况,成分差别,晶体取向及表面电位分布等.除此之外,扫描电镜成像还涉及到电子光学系统.如电子束斑的大小和像散,因此,也将影响到图像的衬度.最后,成像不是直接由二次电子或背散射电子显像,而必须经过一系列的电子线路将它们放大并在荧光屏上扫描显示

________1.二次电子空间分辨率高:二次电子能量低(2~50ev),一般从50~100Å内的表层逸出,面积与入射电子的照射面积相近,所以分辨率高.它有利于用来观察极细小的细节.如断口的微区结构,分析裂纹源的形成与发展.