A. δ 1 在1.5 - 2.0, δ 2 和δ 3 在1.8 - 3, δ 4 在9 - 10
B. δ 1 在1.5 - 2.0, δ 2 和δ 3 在5.5 – 7.5, δ 4 在10 - 15
C. δ 1 在0 - 1, δ 2 和δ 3 在5.5 – 7.5, δ 4 在9 - 10
D. δ 1 在1.5 - 2.0, δ 2 和δ 3 在5.5 – 7.5, δ 4 在9 – 10
[单选题]下列化合物中，质子化学位移最小的是（）。A . CH4B . CH3BrC . CH3ClD . CH3F
[单选题,A1型题] 下列化合物中质子化学位移最大者是（）A . CH3BrB . CH3FC . CH3ClD . CH3I
[单选题]下面化合物中质子化学位移最大的是（）。A . CH4B . CH3FC . CH3ClD . CH3Br
预测化合物的质子化学位移,以下说法正确的是( )A. 苯环上邻近质子离C=O近,共振在高磁场B. 苯环上邻近质子离C=O近,屏蔽常数大C. 苯环上邻近质子离C=
下列化合物中，甲基质子化学位移最大的是：A. CH3CH3B. CH3CH=CH2C. CH3C≡CHD. CH3C6H5
[单选题]下列化合物中的质子，化学位移最小的是（）。A . CH3BrB . CH4C . CH3ID . CH3F
[多选题]质子化学位移向低场移动的原因有（）。A.氢键效应B.去屏蔽效应C.共轭效应D.诱导效应
[多选题]质子化学位移向低场移动的原因有（）。A.氢键效应B.去屏蔽效应C.共轭效应D.诱导效应
[单选题]苷类化合物糖的端基质子的化学位移值在（）。A . 1.0~1.5B . 2.5~3.5C . 4.3~6.0D . 6.5~7.5E . 7.5~8.5
以下化合物羰基碳的化学位移从大到小顺序，正确的为A. CH₃COCH₃ > CH₃COCH₂CH₃ > CH₃CH₂CHOB. CH₃COCH₃ > CH₃CO