下列方法中,可用于制备二氧化硅薄膜的CVD方法是

[多选题] 二氧化硅薄膜厚度的测量方法有（）。A . 比色法B . 双光干涉法C . 椭圆偏振光法D . 腐蚀法E . 电容-电压法

[多选题] 游离二氧化硅测定方法是（）.A . 离子色谱法B . 焦磷酸质量法C . x射线衍射法D . 红外光谱法

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。A . 结晶形态B . 非结晶形态C . 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的D . 以上都不对

[填空题] 制备纳米二氧化硅的反应原理是（）。

[单选题]二氧化硅主要用于（）。A .分散剂B .消光剂C .流平剂D .消泡剂

[单选题]二氧化硅A．阴离子乳化剂B．非离子乳化剂C．天然乳化剂D．固体微粒乳化剂E．辅助乳化剂

[单选题]下列几种氧化方法相比，哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些（）。A . 干氧氧化B . 湿氧氧化C . 水汽氧化D . 与氧化方法无关

[单选题]游离二氧化硅是指未与（）及金属氧化物结合的二氧化硅。A . 水B . 煤屑C . 非金属D . 金属

[单选题]哪种类型的二氧化硅致纤维化作用最强A．游离二氧化硅B．结合二氧化硅C．结晶型游离二氧化硅D．隐晶型游离二氧化硅E．无定型游离二氧化硅

[问答题] 二氧化硅薄膜在集成电路中具有怎样的应用？