8.判断题单晶硅制绒主要是为了减少光的反射，通常使用NaOH、KOH进行绒面的腐蚀，原理是利用硅片的各向同性腐蚀特性。

[填空题] 在单晶硅表面制作绒面时，常用的各向异性腐蚀剂有有机腐蚀剂和（），并且被腐蚀的单晶硅表面为100晶面时，可形成金字塔方椎形状，腐蚀后方椎高度一般为3～6µm。

[单选题]单晶硅光伏电池表面的绒面结构呈（）。A . 三角形B . 圆形C . 倒金字塔形D . 正方形

[问答题] 绒面结构及作用；单晶硅片和多晶硅片表面制作绒面结构所用的腐蚀剂及提高绒面结构质量采用的措施。

21.判断题单晶体具有各向同性，多晶体具有各向异性。A. 对B. 错

[单选题]采用单晶硅的压阻式压力变送器采用单晶硅片为弹性元件，在单晶硅膜片上利用集成电路的工艺，在单晶硅的特定方向扩散一组（）电阻，并将电阻接成桥路。A .不等值B .等值C .线性值D .非线性值

[填空题] 多晶硅表面的结晶面是多重的，因此不能像单晶硅基片那样，使用（）的不同方向腐蚀的化学蚀刻方法。

【判断题】等轴晶系和非晶体都是光学各向同性。A. 正确B. 错误

单晶硅晶体通常采用（）进行生产。A. 提拉法B. 焰融法C. 坩埚下降法D. 区融法

清洗制绒的目的是为了在硅片上取得______结构，这种结构对提高晶体硅对光的______有着重要作用。清洗制绒的目的是为了在硅片上取得______结构，这种结构

[判断题] 湿法蚀刻时蚀刻液的腐蚀是各向同性的，腐蚀发生在和溶液接触的各个方面。A . 正确B . 错误