硅片上的氧化物主要通过（）和（）的方法产生，由于硅片表面非常平整，使得产生的氧化物主要为层状结构，所以又称为（）。

[填空题] 列出热氧化物在硅片制造的4种用途（）、（）、场氧化层和（）。

[单选题]氮氧化物主要刺激人的（）。A . 眼睛B . 上呼吸道C . 肺泡D . 鼻子

[填空题] CMP是一种表面（）的技术，它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面，在硅片和抛光头之间有（），并同时施加（）。

[单选题]对病案造成威胁的空气污染物主要包括( )。A．硫的氧化物、氮氧化物、碳氧化物、卤素化合物、大气尘B．硫的氧化物、硫化物、氮氧化物、碳氧化物、卤素化合物C．硫的氧化物、硫化物、碳氧化物、卤素化合物、大气尘D．硫的氧化物、硫化物、氮氧化物、卤素化合物、大气尘E．硫化物、碳氧化物、氮氧化物、卤素化合物、大气尘

[单选题]大气中的氮氧化物主要指A．N20和N0B．N02和NOC．N0和N203D．N205和N02E．N03和NzO

燃煤电站排放的氮氧化物主要包括( )A. NO2;B. NO;C. N2O;D. N2O5

10 氮氧化物主要伤害人体的:A. 眼、上呼吸道B. 呼吸道深部的细支气管、肺泡C. 皮肤D. 消化道

[问答题] 简述硅片表面污染的来源。

[单选题]氮氧化物的产生与()有关。A．燃烧不好B．点火时间C．燃烧压力、温度和含氧量有关D．发动机技术状况太差

[单选题]氮氧化物的产生与（）有关。A .燃烧不好B .点火时间C .燃烧压力、温度和含氧量有关D .发动机技术状况太差