[判断题]

曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

A . 正确

B . 错误

参考答案与解析：

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曝光后烘焙的作用有（）

曝光后烘焙的作用有（）A. 降低驻波效应B. 促进光刻胶的化学反应，提高光刻胶的粘附性C. 防止光刻胶沾到设备上（保持器械洁净）D. 缓和在旋转过程中光刻胶胶膜

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    曝光后,光刻胶由可溶变成不溶,该种光刻胶是正胶。A. 正确B. 错误

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    [问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

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