用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。

[判断题] 传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。A . 正确B . 错误

[单选题]分集技术中，主要用于克服频率选择性衰落的技术是（）.A . 空间分集B . 频率分集C . 极化分集

[名词解释] 选择性氧化

[名词解释] 选择性Ig亚类缺陷

[单选题]选择性作用于M期的抗肿瘤药物是（ ）。

[单选题]下面抗衰落技术用于对抗频率选择性衰落的是（）.A . 备用波导切换方法B . 自动增益控制电路C . 分集技术

[单选题]选择性直接作用于M胆碱受体的药物是A.毛果芸香碱B.噻吗洛尔C.丙美卡因D.林旦E.过氧苯甲酰

[单选题,A1型题] 离子选择性电极的选择性系数可用于估计（）A . 方法的检测限B . 共存离子的干扰程度C . 电极的斜率D . 方法的线性范围

[问答题] 净化氮氧化物的选择性与非选择性催化还原的主要区别是什么？

[多选题] 浅槽酸洗的工艺特点是（）A . 浅槽酸洗的酸洗液是用酸液泵进行强制循环的，酸液与钢带间产生相对运动，其酸洗效率较高B . 酸洗槽浅，槽内的酸洗液量较少，酸液升温所用的加热时间短，热耗量相对减少。酸液的质量分数、温度的控制灵活，改变酸洗制度容易C . 浅槽酸洗钢带张力大小控制容易，控制设备简单、轻便，消耗的电能也少D . 浅槽酸洗的设备投资比深槽酸洗的设备要便宜