扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺，现在主要被用来制作（）。

[判断题] 双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A . 正确B . 错误

[问答题,论述题] 集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺？各有什么优缺点？

[填空题] 集成电路制造通常包括集成电路设计、工艺加工、（）、封装等工序。

[填空题] 集成电路的特征尺寸是衡量集成电路加工工艺水平和（）的主要指标。

[单选题]扩散工艺现在广泛应用于制作（）。A . 晶振B . 电容C . 电感D . PN结

[问答题,论述题] 描述你对集成电路工艺的认识。

[判断题] 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A . 正确B . 错误

[问答题] 什么是特征尺寸？它对集成电路工艺有何影响？

[单选题]在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。A . 刻蚀B . 氧化C . 淀积D . 光刻

[填空题] 集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。