在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

[判断题] 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A . 正确B . 错误

[判断题] 双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A . 正确B . 错误

[多选题] 扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺，现在主要被用来制作（）。A . 埋层B . 外延C . PN结D . 扩散电阻E . 隔离区

[单选题]工艺技术管理包括工艺技术、工艺管理、工艺装备、工艺材料和（）五个方面。A .工艺数量B .人员素质C .人员数量D .工艺水平

[判断题] 工艺技术管理包括工艺技术、工艺管理、工艺装备、工艺材料和工艺水平五个方面。（）A . 正确B . 错误

[填空题] 半导体集成电路是采用半导体工艺技术，在硅基片上制作包括电阻、电容、（）、晶体管等元器件并具有某种电路功能的集成电路。

[填空题] 集成电路制造通常包括集成电路设计、工艺加工、（）、封装等工序。

[填空题] 集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。

[问答题,论述题] 描述你对集成电路工艺的认识。

[问答题] 在双极集成电路制造中，为什么要采用外延和埋层工艺？