A. SiO2+C→S+CO
B. Si+HCl→SiHCl3
C. SiHC3+H2→Si+HCl
D. Si+Cl4→SiCl4
由沙子到多晶硅的过程中经常用到的提纯方法有:A. 吸附法B. 蒸馏法(精馏法)C. 直拉法D. 区熔法
[问答题] 哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅?描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
[多选题] 铸造多晶硅中氢的主要作用包括()A . 钝化晶界B . 钝化错位C . 钝化电活性杂质
多晶硅的制备方法有 。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 二氯氢硅的氢还原法C. 硅烷的热分解法D. 直拉法
[单选题]铸造多晶硅中的氧主要来源不包括()A . 头尾料和锅底料中含有的氧B . 晶体生长过程中硅熔体与石英坩埚作用引入的氧C . 石墨加热器与坩埚反应引入的氧D . 外界空气的进入
[单选题]多晶硅组件效率不低于()。A . 0.15B . 0.1C . 0.14D . 0.06
[单选题]半导体硅工业产品不包括()①多晶硅②单晶硅③外延片④非晶硅A . ①②④B . ①②③④C . ②③④D . ③④
单晶硅与多晶硅的根本区别是A. 纯度B. 原子排列方式C. 导电能力D. 原子结构
[单选题]单晶硅与多晶硅的根本区别是( )A.纯度B.原子排列方式C.导电能力D.原子结构
高纯多晶硅是()的主要原料。A. 带状多晶硅B. 铸造多晶硅C. 区熔单晶硅D. 直拉单晶硅