采用CF₄作为气体源对SiO₂进行刻蚀，在进气中分别加入O₂或H₂对刻蚀速率有什么影响？随着O₂或H₂进气量的增加，对Si和SiO₂刻蚀选择性怎样变化？为什么？

 

[问答题,论述题] 简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。

[单选题]不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。A .CHF3B .C2F6C .C3F8D . D.HF

[单选题]在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的（）内加入适量的氢气，能够降低刻蚀的速率。A . 气体B . 等离子体C . 固体D . 液体

[判断题] 炼钢中[Si]+[O2]=（SiO2）是吸热反应。A . 正确B . 错误

[判断题] 高炉煤气主要成份有CO、CO2、O2、CH4、H2。A . 正确B . 错误

[判断题] 还原气体在炉内以CO、H2、O2三种元素为主进行反应A . 正确B . 错误

[判断题] 高炉煤气主要成分有CO、CO2、O2、CH4、H2。（）A . 正确B . 错误

[单选题]在大气的所有气体中，对农业作用最大的气体有O2、H2O、CO2和（）。A .H2B .N2C .NH3D .CH4

[单选题]H2、O2、Cl2、N2各10克，其中分子数最少的是（）。A . H2B . O2C . Cl2D . N2

[填空题] 高炉煤气成份有：CO2、（）、H2、CH4、O2和N2。