A .CHF3
B .C2F6
C .C3F8
D .HF
铝常常采用的干法刻蚀气体为:A. BClxB. Cl2C. HFD. HCl
氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2
干法刻蚀的优点包括___A. 刻蚀剖面各向异性,非常好的侧壁剖面控制B. 最小的光刻胶脱落或粘附C. 好的片内、片间、批次间的刻锉均匀性D. 对下层材料的刻锉选
[问答题,论述题] 简述BOE(或BHF)刻蚀SiO2的原理。
中国大学MOOC: SiO2的湿法刻蚀溶液中加入哪种物质,可以减缓刻蚀速率。中国大学MOOC: SiO2的湿法刻蚀溶液中加入哪种物质,可以减缓刻蚀速率。
利用物理的轰击作用实现干法刻蚀的是:A. 等离子体刻蚀B. 干法刻蚀C. 反应离子刻蚀D. 溅射刻蚀
【多选题】铝进行干法刻蚀时,常常采用哪种物质A. HFB. HClC. Cl2D. BClx
[问答题] 什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。
[填空题] 在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
干法刻蚀选择性比湿法腐蚀好。A. 对B. 错