A. HF
B. HCl
C. Cl2
D. BClx
铝常常采用的干法刻蚀气体为:A. BClxB. Cl2C. HFD. HCl
氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2
干法刻蚀的优点包括___A. 刻蚀剖面各向异性,非常好的侧壁剖面控制B. 最小的光刻胶脱落或粘附C. 好的片内、片间、批次间的刻锉均匀性D. 对下层材料的刻锉选
干法刻蚀选择性比湿法腐蚀好。A. 对B. 错
[问答题,论述题] 根据原理分类,干法刻蚀分成几种?各有什么特点?
利用物理的轰击作用实现干法刻蚀的是:A. 等离子体刻蚀B. 干法刻蚀C. 反应离子刻蚀D. 溅射刻蚀
[问答题] 什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。
[填空题] 在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
[问答题] 干法刻蚀有哪几种?相应的内容是什么?
[单选题]不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是()。A .CHF3B .C2F6C .C3F8D . D.HF