A. 刻蚀剖面各向异性,非常好的侧壁剖面控制
B. 最小的光刻胶脱落或粘附
C. 好的片内、片间、批次间的刻锉均匀性
D. 对下层材料的刻锉选择比较好
铝常常采用的干法刻蚀气体为:A. BClxB. Cl2C. HFD. HCl
干法刻蚀选择性比湿法腐蚀好。A. 对B. 错
利用物理的轰击作用实现干法刻蚀的是:A. 等离子体刻蚀B. 干法刻蚀C. 反应离子刻蚀D. 溅射刻蚀
氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2
[问答题,论述题] 根据原理分类,干法刻蚀分成几种?各有什么特点?
[问答题] 什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。
[填空题] 在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
[问答题] 干法刻蚀有哪几种?相应的内容是什么?
一般湿法刻蚀是各向同性,而干法刻蚀则是各向异性。A. 正确B. 错误
一般情况下,与湿法刻蚀相比,干法刻蚀具有较高的选择比。A. 正确B. 错误