[问答题] 什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。
[单选题]光刻加工的工艺过程为:()A . ①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B . ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C . ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
[填空题] 微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。
[填空题] 光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和(),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是(),后者是()。
[问答题] 什么是负性光刻?正性光刻?
[单选题]钻石加工取料阶段主要采用()实施加工。A . 劈钻工艺B . 锯钻工艺C . 粗磨工艺D . A+B+C
[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误
[问答题] 简述零件加工过程中加工阶段的划分以及各个加工阶段的主要任务是什么?1粗加工
[单选题]光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()。A . 电子束曝光技术B . 离子束曝光技术C . X射线曝光技术