二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A.②④B.①③C.①④D.②③

[单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。A . 预B . 再C . 选择

二氧化硅薄膜,能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有()A. 杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数B. 杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系

[单选题]二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。A . 降低B . 增加C . 不变D . 先降低后增加

热氧化过程中,硅内靠近Si-SiO2 界面的杂质将在界面两边的硅与二氧化硅中形成再分布。对于k<1、二氧化硅中的慢扩散杂质,再分布之后靠近界面处二氧化硅中的杂质

热氧化过程中,硅内靠近Si-SiO2 界面的杂质将在界面两边的硅和二氧化硅中形成再分布。对于k<1、二氧化硅中的慢扩散杂质,再分布之后靠近界面处二氧化硅中的杂质

[单选题]如果磷在二氧化硅中扩散，对扩散率影响最大的因素是：（）。A . 扩散剂总量B . 压强C . 温度D . 浓度

[单选题]二氧化硅A．阴离子乳化剂B．非离子乳化剂C．天然乳化剂D．固体微粒乳化剂E．辅助乳化剂

[单选题]钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。A . 替位式B . 间隙式C . 施主D . 可能是替位式也可能是间隙式

[单选题]哪种类型的二氧化硅致纤维化作用最强A．游离二氧化硅B．结合二氧化硅C．结晶型游离二氧化硅D．隐晶型游离二氧化硅E．无定型游离二氧化硅

[主观题]铸造用硅砂二氧化硅分级，如代号为98，表示二氧化硅最低含量为98%。此题为判断题(对，错)。