光刻胶的主要成分有()

光刻胶的成分包含:A. 高分子聚合物（树脂）B. 感光剂C. 溶剂D. 添加剂

[问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

曝光后,光刻胶由可溶变成不溶,该种光刻胶是正胶。A. 正确B. 错误

[问答题] 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

环化橡胶类光刻胶是负胶。A. 正确B. 错误

[多选题] 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。A . 树脂B . 感光剂C . HMDSD . 溶剂E . PMMA

[判断题] 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A . 正确B . 错误

光刻胶的主要性能指标包括:A. 灵敏度B. 分辨率C. 粘附性D. 抗蚀性

光刻胶的性能指标包括:。A. 灵敏度B. 分辨率C. 黏附性D. 抗蚀性