溅射镀膜

溅射镀膜常用的工作气体是:A. 氧气(O₂)B. 氮气(N₂)C. 氩气(Ar)D. 氢气(H₂)

[多选题] 一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。A . 产生一个离子并导向靶B . 被轰击的原子向硅晶片运动C . 离子把靶上的原子轰出来D . 经过加速电场加速E . 原子在硅晶片表面凝结

离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。A. 对B. 错

假设实验中要淀积一介质薄膜,可采用以下哪种溅射镀膜法?A. 二极直流溅射B. 射频溅射C. 偏压溅射D. 磁控溅射

常见的溅射方法有:-|||-A 直流溅射-|||-B 磁控溅射-|||-刻蚀溅射-|||-D 射频溅射

[名词解释] 溅射

[问答题] 与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？

[名词解释] 镀膜

[多选题]镀膜玻璃根据外观质量，阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃可以分为（　）。A.不合格品B.合格品C.一等品D.优等品E.特等品

[名词解释] 表面镀膜