A . 衬底制备
B . 原位HCl腐蚀
C . 生长温度,生长压力,生长速度
D . 尾气的处理
[填空题] 在外延工艺中,如果膜和衬底材料(),例如硅衬底上长硅膜,这样的膜生长称为();反之,膜和衬底材料不一致的情况,例如硅衬底上长氧化铝,则称为()。
[多选题] 硅外延片的应用包括()。A . 二极管和三极管B . 电力电子器件C . 大规模集成电路D . 超大规模集成电路
[判断题] 高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。A . 正确B . 错误
[单选题]半导体硅工业产品不包括()①多晶硅②单晶硅③外延片④非晶硅A . ①②④B . ①②③④C . ②③④D . ③④
[填空题] 延生长方法比较多,其中主要的有()外延、()外延、金属有机化学气相外延、()外延、原子束外延、固相外延等。
[填空题] 外延生长方法比较多,其中主要的有()外延、()外延、金属有机化学气相外延、分子束外延、()、固相外延等。
[单选题]通过()改变驱动力场,借以控制生长系统中的成核率,这是晶体生长工艺中经常使用的方法。A .温度场B .磁场C .重力场D .电场
[问答题,论述题] 下图为硅外延生长速度对H2中SiCL4摩尔分量的函数曲线,试分析曲线走势,并给出其变化的原因。
[问答题] 外延工艺按方法可分为哪些?