以P₂O₅为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

[问答题] 例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

多晶硅的制备方法有 。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 二氯氢硅的氢还原法C. 硅烷的热分解法D. 直拉法

[问答题] 哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

[多选题] 铸造多晶硅中氢的主要作用包括（）A . 钝化晶界B . 钝化错位C . 钝化电活性杂质

[单选题]甘蓝对N：P2O5：K2O的要求比例为（）。A . 3：1：4B . 3：2：4C . 2：3：4D . 1：1：1

晶体中的空位、自填隙、杂质都对杂质扩散有影响，其中空位对P、B等慢扩散杂质的影响最大。A. 正确B. 错误

[单选题]多晶硅组件效率不低于（）。A . 0.15B . 0.1C . 0.14D . 0.06

[单选题]下列铸造多晶硅的制备方法中,（）没有坩埚的消耗，降低了成本，同时又可减少杂质污染长度。A . 布里曼法B . 热交换法C . 电磁铸锭法D . 浇铸法

[问答题] 杂质在硅中的扩散方式有哪些？

单晶硅与多晶硅的根本区别是A. 纯度B. 原子排列方式C. 导电能力D. 原子结构