A . 常压烧结
B . 热压烧结
C . 反应烧结
D . 气氛烧结
[问答题] 碳化硅陶瓷和氮化硅陶瓷各具有什么特性?主要有什么用途?
[单选题]陶瓷刀片按陶瓷材料分为纯氧化铝基陶瓷、氮化硅基陶瓷、混合陶瓷和()四种。A . 晶须增强陶瓷B . 晶须减弱陶瓷C . 纯氧化铜陶瓷D . 纯氧化镁陶瓷
氮化硅(Si3N4)是一种高温陶瓷材料,它难溶于水、硬度大、熔点高、化学性质稳定。则由此推测氮化硅是( )A. 离子晶体B. 分子晶体C. 原子晶体D. 金属晶
[单选题]下列关于耐高温新型陶瓷——氮化硅(Si3N4)的叙述,正确的是A.氮化硅中Si、N两种元素的质量比为4:3B.氮化硅中氮元素的质量分数为60%C.14g氮化硅中含硅8.4gD.氮化硅的相对分子质量为l44
[问答题] 叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2
氮化硅湿法刻蚀常常采用的湿法腐蚀液为A. 磷酸B. 氢氟酸C. 硝酸D. 硫酸
电解槽内衬使用氮化硅结合碳化硅材料相对于石墨块的优点()A. 导电性良好B. 韧性好C. 导热性良好D. 低电阻率
[多选题] 在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。A . 晶圆顶层的保护层B . 多层金属的介质层C . 多晶硅与金属之间的绝缘层D . 掺杂阻挡层E . 晶圆片上器件之间的隔离
[问答题] 简述非晶氢化氮化硅(α-SiNx:H)薄膜的优点及其制备工艺。