氮化硅湿法刻蚀常常采用的湿法腐蚀液为

氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2

[问答题] 叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。

最常用的二氧化硅的湿法刻蚀腐蚀液包括()。A. 氢氟酸B. 氟化铵C. 去离子水D. 磷酸

9砷化镓的湿法刻蚀腐蚀液是磷酸。A. 正确B. 错误

干法刻蚀选择性比湿法腐蚀好。A. 对B. 错

硅常用的湿法刻蚀溶液为:A. 热磷酸B. 氢氟酸C. 硝酸D. 硫酸

关于湿法刻蚀描述正确的是:()□A. 湿法刻蚀的优点是:工艺简单、腐蚀选择性好;各向同性剖面B. 利用化学溶液溶解硅表面的材料C. 湿法刻蚀的基本过程是:刻蚀、

[名词解释] 湿法腐蚀

湿法刻蚀的选择性比较好，但是为各向异性刻蚀。A. 正确B. 错误

[填空题] 腐蚀V形槽一般采用（）的湿法化学腐蚀方法。