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室温下Ge中掺入锑的浓度为1015cm-3,设杂质全电离,且μn=3600cm2/Vs,μp=1700cm2/Vs,已知本征载流子浓度ni=2.5×1013cm-3,试求:B6tPmXHuk0
(1) 室温下电子和空穴浓度;
(2) 室温下该材料的电阻率。
<计算时可能会用到的常数:q=1.6×10-19C,k0=1.38×10-23J/K,ε0=8.85×10-12F/m,ln10=2.3,ln2=0.69)B6tPmXHuk0
在半导体锗材料中,掺入施主杂质浓度ND=1014cm-3, 受主杂质浓度NA=7×1013cm-3,设室温下本征锗的电阻率为60Ω.cm,假设电子和空穴的迁移率
[题目]在半导体锗材料中,掺入施主杂质浓度ND-|||-=1014cm-3 ,受主杂质浓度 =7times 1013cm-3 设-|||-室温下本征锗的电阻率为
硅样品中施主浓度和受主浓度分别为^16(cm)^-3 times (10)^15(cm)^-3,设室温下杂质全部电离。试计算电子和空穴浓度以及费米能级^16(c
2.在半导体硅材料中掺入施主杂质浓度 _(D)=5times (10)^15(cm)^-3, 受主杂质浓度 _(A)=8times -|||-^14(cm)^-
在室温下,锗的有效态密度NC=1.051019cm-3,NV=5.71018cm-3,Eg=0.67eV。求温度为300K和500K时,同时含施主浓度ND=
计算含有施主杂质浓度为ND=9×1015cm-3,及受主杂质浓度为1.1×1016cm3,的硅在300K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。计算含有施主杂质浓
计算衬底掺杂在1015cm-3和1018cm-3之间的硅n+p结光电池的开路电压。假设Ls=100μm,Dn=36cm2/s,光电流密度IL/A=35mA/cm
一块有掺杂补偿的n型硅单晶材料,其平衡电子浓度 _(0)=7.5times (10)^15(cm)^-3, 已知掺入-|||-的受主浓度 _(A)=5times
设 X sim N(3, 4),试求:(1)P(5 < X < 9);(2)P(X > 7)。(已知 Phi(1) = 0.8413,Phi(2) = 0.97
4.设Xsim N(3,2^2),试求:(1)P(X<5);(2)P(X>9).(已知Phi(1)=0.8413,Phi(2)=0.9772,Phi(3)=0.