扩散,可以分为三个步骤:预淀积、再扩散(杂质推进)、杂质激活。A. 正确B. 错误
[问答题,论述题] 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法?
[问答题] 淀积层(illuvialhorizon)
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。A . 600~750℃B . 900~1050℃C . 1100~1250℃D . 950~1100℃
【单选题】金属薄膜淀积之后,用于淀积介质的CVD方法是:A. APCVDB. LPCVDC. PECVDD. ALD原子层淀积
[判断题] 在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤:预淀积、推进和激活。A . 正确B . 错误
[名词解释] 物理气相淀积(pvd)
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,砷和锑的扩散温度为()。A . 1050~1200℃B . 900~1050℃C . 1100~1250℃D . 1200~1350℃