A . 能量
B . 剂量
[单选题]离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。A . 能量B . 剂量
[填空题] 离子注入杂质浓度分布中最重要的二个射程参数是()和()。
[多选题] 对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。A . 入射离子的能量B . 入射离子的质量C . 入射离子的原子序数D . 靶原子的质量、原子序数、原子密度E . 注入离子的总剂量
离子注入与扩散工艺相比,具有很好的均匀性,注入杂质纯度比较高,并且杂质浓度更容易控制。A. 正确B. 错误
[问答题] 扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么?与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是什么?
离子注入的描述,正确的是?A. 入射离子的位移阈能大于Ed,发生级联碰撞B. 离子注入后退火的目的是消除晶格损伤,并使注入杂质实现电激活C. 一级近似下,无定形
[问答题] 简述离子注入工艺中退火的主要作用?