简述离子注入工艺中退火的主要作用？

[问答题] 离子注入后为什么要退火？

离子注入过程中,常用的退火方法有()。A. 高温退火B. 快速热退火C. 氧化退火D. 电阻丝退火

[问答题] 离子注入后为什么要进行退火？

离子注入工艺的主要目的是（）A. 形成金属连线B. 掺杂半导体C. 沉积薄膜D. 清洗晶圆

[单选题]离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

[单选题]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

下列哪项不是离子注入工艺的优点？A. 精确控制掺杂浓度B. 掺杂深度可控C. 高温处理D. 高精度掺杂分布

离子注入掺杂后需要进行退火处理，其目的是:A. 增加掺杂剂量B. 修复晶格损伤C. 增强掺杂物的反应活性D. 降低注入深度

[名词解释] 离子注入

[多选题] 离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。A . 砷化氢B . 二硼化氢C . 四氟化硅D . 三氟化磷E . 五氟化磷