离子注入过程中,常用的退火方法有()。

[问答题] 简述离子注入工艺中退火的主要作用？

[问答题] 离子注入后为什么要退火？

[问答题] 离子注入后为什么要进行退火？

离子注入掺杂后需要进行退火处理，其目的是:A. 增加掺杂剂量B. 修复晶格损伤C. 增强掺杂物的反应活性D. 降低注入深度

[名词解释] 离子注入

[单选题]离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

[单选题]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

[多选题] 离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。A . 砷化氢B . 二硼化氢C . 四氟化硅D . 三氟化磷E . 五氟化磷

[问答题] 离子注入表面改性

[多选题] 离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。A . 砷化氢B . 二硼化氢C . 三氟化硼D . 硅烷E . 氧气