在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）

固一固扩散是利用晶固表面含有所需杂质的氧化层作为杂质源进行扩散的方法。A. 正确B. 错误

[填空题] 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。

[问答题] 杂质在硅中的扩散方式有哪些？

[多选题] 下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。A . 硼B . 锡C . 锑D . 磷E . 砷

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）     ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩

根据扩散杂质在晶格中的位置不同，将扩散分为（）A. 填隙式扩散B. 替位式扩散C. 有限源扩散D. 恒定源扩散

[判断题] 扩散性半导体应变计是将N型咋杂质扩散到高阻的P型硅基片上,形成一层极薄的敏感层制成的A . 正确B . 错误

[单选题]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。A . 高斯B . 余误差C . 指数

[单选题]在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。A . 填隙扩散B . 杂质扩散C . 推挤扩散D . 自扩散

杂质以恒定的表面杂质浓度源源不断的通入,该扩散过程称为:A. 恒定源扩散B. 预淀积C. 有限源扩散D. 再分布