A. 正确
B. 错误
[填空题] 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
[问答题,论述题] 假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
[单选题]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为()分布。A . 高斯B . 余误差C . 指数
[判断题] 重力式分离器是利用液(固)体杂质密度不同进行分离的。A . 正确B . 错误
[填空题] 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种,分别是()扩散和()扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分,即(),才有助于形成半导体硅。
[单选题]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()A .高斯函数B .余误差函数C .指数函数D .线性函数
[单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。A . 预B . 再C . 选择
[多选题] 下列扩散杂质源中,()不仅是硅常用的施主杂质,也是锗常用的施主杂质。A . 硼B . 锡C . 锑D . 磷E . 砷
[判断题] 重力式分离器是利用天然气、液(固)体杂质的质量不同来进行分离的。A . 正确B . 错误