A. 水汽氧化法
B. 蒸发法
C. 溅射法
D. 电镀法
[名词解释] 物理气相淀积(pvd)
[问答题,论述题] 物理气相淀积最基本的两种方法是什么?简述这两种方法制备薄膜的过程。
[问答题] 有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法?
下列哪项不属于物理气相沉积技术的特点?()A. 低温下操作B. 可用于制备高纯度薄膜C. 适用于复杂形状基材D. 主要用于合成非金属材料
[问答题] 物理气相沉积(PVD)
[单选题]物理气相沉积简称()。A . LVDB . PEDC . CVDD . PVD
【单选题】金属薄膜淀积之后,用于淀积介质的CVD方法是:A. APCVDB. LPCVDC. PECVDD. ALD原子层淀积
[问答题] 什么叫物理气相沉积,有何优缺点?