二氧化硅的干法刻蚀所采用的等离子体为:

[判断题] 高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。A . 正确B . 错误

最常用的二氧化硅的湿法刻蚀腐蚀液包括()。A. 氢氟酸B. 氟化铵C. 去离子水D. 磷酸

[判断题] 在刻蚀中用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅。A . 正确B . 错误

氮化硅常常采用的干法刻蚀气体为:A. HFB. NF3C. HClD. Cl2

[单选题]二氧化硅A．阴离子乳化剂B．非离子乳化剂C．天然乳化剂D．固体微粒乳化剂E．辅助乳化剂

[单选题]哪种类型的二氧化硅致纤维化作用最强A．游离二氧化硅B．结合二氧化硅C．结晶型游离二氧化硅D．隐晶型游离二氧化硅E．无定型游离二氧化硅

[单选题]下列方程式中属于二氧化硅刻蚀工艺的是（）。A .4HF+Si=SiF4+2H2↑B .CF4+SiO2——→SiF4+CO2↑C .CF4+SiO2+O2——→SiF4+CO2↑D . D.SiO2+4HF——→SiF4+2H2O

[单选题]游离二氧化硅是指未与（）及金属氧化物结合的二氧化硅。A . 水B . 煤屑C . 非金属D . 金属

二氧化硅刻蚀时,加入NH4F的,开始刻蚀时,对刻蚀速率影响的作用是:A. 加快B. 减缓C. 不变D. 不确定

[单选题]石材的二氧化硅含量越高越耐酸，以下哪种石材的二氧化硅含量最高？（　　）A.安山岩B.玄武岩C.花岗岩D.石英岩