光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

(易)光刻工艺的主要目的是:A. 在晶圆上形成图案B. 去除晶圆表面的杂质C. 提高晶圆的导电性D. 改变晶圆的机械性能

[问答题] 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

[问答题] 光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

[问答题] 简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

光刻工艺首先要对硅片进行预处理,主要包括:A. 平整度和清洁度的检查B. 清洗C. 烘焙D. 增粘处理

[问答题,论述题] 典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。

[填空题] 光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。

判断光刻工艺是否具有生命力的几个标准,他们分别是:A. 分辨率B. 套准精度C. 产出率D. 灵敏度