典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。

[问答题] 光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

[问答题] 简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

[填空题] 光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。

[问答题] 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

[单选题]光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。A . 150－200℃B . 200℃左右C . 250℃左右D . 300℃左右

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

[问答题] 简述光纤端面制备的操作步骤分为哪几步？

[问答题] 典型化的方法主要有哪几种？

[问答题] 简述镀锡机组工艺段各个工艺步骤的主要作用。