A . 液氮冷阱
B . 净化阱
C . 抽气阱
D . 无气泵
[问答题] 例举离子注入设备的5个主要子系统。
[填空题] 离子注入是借其()强行进入靶材料中的一个()物理过程。
[单选题]为了解决中性束对注入均匀性的影响,可在系统中设有(),使离子束偏转后再达到靶室。A . 磁分析器B . 正交电磁场分析器C . 静电偏转电极D . 束流分析仪
[单选题]离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。A . 能量B . 剂量
[判断题] 离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。A . 正确B . 错误
[多选题] 对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。A . 入射离子的能量B . 入射离子的质量C . 入射离子的原子序数D . 靶原子的质量、原子序数、原子密度E . 注入离子的总剂量
[单选题]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。A . 能量B . 剂量
[问答题,论述题] 下图为一个典型的离子注入系统。(1)给出1~6数字标识部分的名称,简述其作用。(2)阐述部件2的工作原理。