离子注入与扩散工艺相比，具有很好的均匀性，注入杂质纯度比较高。

离子注入与扩散工艺相比，具有很好的均匀性，注入杂质纯度比较高，并且杂质浓度更容易控制。A. 正确B. 错误

[问答题] 例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

离子注入掺杂与扩散掺杂相比，下列说法正确的是()A. 离子注入的横向扩散很大，不利于提高IC集成度；B. 离子注入的工艺温度更高;C. 离子注入能更精确地控制掺

[单选题]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

[问答题] 扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么？与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是什么？

[问答题] 什么是扩散工艺？

[名词解释] 离子注入

下列哪项不是离子注入工艺的优点？A. 精确控制掺杂浓度B. 掺杂深度可控C. 高温处理D. 高精度掺杂分布

[单选题]离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。A . 能量B . 剂量

[问答题] 简述离子注入工艺中退火的主要作用？